真空技术和物理学的进步紧密相关，目前已经是表面科学、半导体应用、高能粒子加速器、核聚变研究装置和宇宙开发领域不可能性缺少的技术。

由郭方准著作的《实用真空技术》主要内容包括：真空知识概论、真空密封、影响真空度的要素、真空系统、典型的薄膜生长方式。

第1章 真空知识概论

 1.1 什么是真空

 1.2 真空的发现和理论基础

 1.3 几个重要的概念

 1.4 真空技术的应用

第2章 真空密封

 2.1 永久密封

 2.2 非永久密封

 2.3 真空法兰

 2.4 真空导入要素

 2.5 波纹管

第3章 影响真空度的要素

 3.1 真空检漏

 3.2 真空中的材料气体放出

 3.3 真空材料的表面净化和抛光

 3.4 真空系统的排气计算

第4章 真空系统

 4.1 真空系统的构成

 4.2 真空腔体

 4.3 真空泵

 4.4 真空计

 4.5 真空阀门

 4.6 各种运动导入器

 4.7 配管连接元件

第5章 典型的薄膜生长方式

 5.1 物理方式成膜（Physical Vapor Deposition:PVD）

 5.2 化学方式成膜（Chemical Vapor Deposition:CVD）

附录

参考文献