本书较全面地介绍了有关薄膜材料制备技术的基础知识，总结了近年来薄膜材料制备领域的新进展，并融入了作者多年来从事薄膜材料研究所取得的成果。全书共10章。第1章主要介绍了薄膜材料的基本概念、特征，并扼要介绍了薄膜材料的物性和结构的分析方法。第2章和第3章讲述重要的预备知识，即真空技术和等离子体技术。第4章和第5章着重讨论了制备薄膜材料的物理气相沉积技术和化学气相沉积技术的基本原理和方法，包括蒸发、溅射、离子束、脉冲激光和等离子体化学气相沉积技术。第6章则讨论了薄膜材料的厚度和沉积速率的测量方法。第7～10章重点介绍了当前国际上研究的几种热点薄膜材料，如低介电常数薄膜、氧化锌发光薄膜、铁电薄膜和硅基等的制备方法、结构和性质。

本书较全面地介绍了有关薄膜材料制备技术的基础知识，总结了近年来薄膜材料制备领域的新进展，并融入了作者多年来在从事薄膜材料研究中所取得的成果。全书共10章，第l章主要介绍了薄膜材料的基本概念、特征，并扼要介绍了薄膜材料的物性和结构的分析方法。第2章和第3章讲述的是有关薄膜制备技术中涉及的基础知识，包括真空技术和等离子体技术等。第4章和第5章是本书的重点，着重讨论了制备薄膜材料的物理气相沉积技术和化学气相沉积技术的基本原理和方法，包括蒸发、溅射、离子束、脉冲激光和等离子体化学气相沉积技术，以及分子束外延和液相法生长技术等。第6章讨论了薄膜材料的厚度和沉积速率的检测方法。第7～10章则有选择地介绍了当前国际上研究的几种热点薄膜材料的制备和检测技术，如超低和超高介电常数薄膜、发光薄膜、超硬薄膜、巨磁电阻薄膜等，其目的是使读者进一步了解薄膜材料的广泛应用及其发展方向。

本书可供从事薄膜材料研究的科研工作者参考，也可以作为物理学、材料科学与工程、电子科学与技术等专业高年级本科生或研究生的参考读物。

前言

第1章 薄膜的特征

1.1 薄膜的定义

1.2 表面效应

1.3 薄膜的结构和缺陷

第2章 真空技术基础

2.1 真空的基本概念

2.2 气体的动力学描述

2.3 气体的流动与抽气

2.4 真空的获得

2.5 真空的测量

第3章 等离子体技术基础

3.1 等离子体的基本概念

3.2 等离子体的分类

3.3 低温等离子体的产生

第4章 薄膜的物理气相沉积

4.1 蒸发沉积

4.2 溅射沉积

4.3 离子束沉积

4.4 脉冲激光沉积

第5章 化学气相沉积

5.1 热化学气相沉积

5.2 等离子体化学气相沉积

5.3 高密度等离子体化学气相沉积

5.4 其他化学气相沉积

第6章 膜厚和沉积速率的测量

6.1 光学法

6.2 天平法

6.3 电学方法

6.4 表面粗糙度仪法

第7章 低介电常数薄膜材料

7.1 低介电常数材料的研究背景

7.2 碳基低介电常数薄膜

7.3 硅基低介电常数薄膜

7.4 SiCOH多孔(超)低介电常数材料的制备与性能

第8章 氧化锌薄膜材料

8.1 氧化锌薄膜的特性和用途

8.2 氧化锌薄膜的制备和光致发光谱

第9章 钛酸锶钡铁电多层薄膜

9.1 铁电多层薄膜的研究意义

9.2 BaTiO3／Ba0.6Sr0.4 TiO3多层薄膜的介电增强效应

9.3 界面对BaTiO3／SrTio3多层膜的介电学性质的影响

9.4 多层膜的铁电性能

第10章 硅基颗粒复合发光薄膜

10.1 硅基发光材料研究的意义及历史

10.2 硅基颗粒复合发光薄膜的制备

10.3 Si-SiO2和Ge-SiO2薄膜的光致发光和电致发光特性

参考文献