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图书 硅技术的发展和未来
内容
编辑推荐

本书系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。主要内容包括:半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等。

内容推荐

本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、晶格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念;系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。其内容广泛,数据详实,可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。

目录

1 导论:各种形式的硅

 1.1 引言

 1.2 从20世纪60年代到70年代初:能带

 1.3 20世纪70年代:应用于硅的表面理论

 1.4 20世纪80年代:硅的结构能

 1.5 20世纪90年代:硅团簇与量子点的结构和电子性质

 1.6 未来展望

 参考文献

第一部分 半导体体硅晶体

 ……

第二部分 多晶硅

第三部分 外延、薄膜和多孔层

第四部分 晶格缺陷

第五部分 硅掺杂

第六部分 某些杂志的作用

第七部分 器件

第八部分 对硅的补充:化合物半导体

第九部分 新的研究领域

List of Contributors

标签
缩略图
书名 硅技术的发展和未来
副书名
原作名
作者 (法)P.希弗特//(德)E.克瑞梅尔
译者 屠海令
编者
绘者
出版社 冶金工业出版社
商品编码(ISBN) 9787502445362
开本 16开
页数 480
版次 1
装订 平装
字数 539
出版时间 2009-02-01
首版时间 2009-02-01
印刷时间 2009-02-01
正文语种
读者对象 研究人员,普通成人
适用范围
发行范围 公开发行
发行模式 实体书
首发网站
连载网址
图书大类 科学技术-工业科技-化学工业
图书小类
重量 0.658
CIP核字
中图分类号 TQ127.2
丛书名
印张 31.25
印次 1
出版地 北京
234
156
24
整理
媒质 图书
用纸 普通纸
是否注音
影印版本 原版
出版商国别 CN
是否套装 单册
著作权合同登记号 图字01-2009-0710号
版权提供者 Springer-Verlag Berlin Heidelberg 2004
定价
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更新时间:2025/5/10 7:14:54