本书是国际上第一本详细介绍脉冲激光沉积动力学原理的专著。主要介绍了作者建立的反映该技术各个阶段物理过程的统一动力学模型；反映等离子体演化近场、中场和远场行为的基本方程，以及椭球羽辉形成的机制；关于烧蚀阶段中固液相界面动态规律，以及热源项、蒸发项、吸收率动态变化和非傅里叶效应的影响等，可作为有关领域的博士生或硕士生的教科书和参考书，也适合于从事材料科学和凝聚态物理研究的科学工作者。

本书是国际上第一本详细介绍脉冲激光沉积动力学原理的专著。主要介绍了作者建立的反映该技术各个阶段物理过程的统一动力学模型；反映等离子体演化近场、中场和远场行为的基本方程，以及椭球羽辉形成的机制；关于烧蚀阶段中固液相界面动态规律，以及热源项、蒸发项、吸收率动态变化和非傅里叶效应的影响；等离子体薄膜蒙特卡罗(Monte carlo)模拟，以及在生长过程中若干自组织现象规律。

本书完整、深入地总结了作者在自洁净玻璃和空芯光纤的研究中诸多具有独创性的研究成果：在玻璃基上制备具有光催化和节能双重功能的Ti02薄膜和TiO2／TiN／TiO：多层薄膜；制备以石英玻璃毛细管为基的多种高反射薄膜、不同体系的全反射薄膜等多种体系材料，并用于制备空芯光纤。有关材料的制备工艺、性能表征和机制研究具有深远的应用背景。

本书的两部分具有相对的独立性，但是内容彼此呼应，具有内在的逻辑联系，互补性很强，形成完整的科学结构。因此，尽管本书的内容完全取自最新研究成果，但是其系统性和可读性却很强。本书适合于从事材料科学和凝聚态物理研究的科学工作者，也可作为有关领域的博士生或硕士生的教科书和参考书。

总序

前言

上篇 脉冲激光沉积动力学

第1章　薄膜材料与制备方法引论

第2章　薄膜的缺陷和界面与实验表征

第3章　脉冲激光沉积技术及其Z-L模型一般描述

第4章　激光烧蚀的基本模型与含热源项模型

第5章　含蒸发项和热源项的以及靶材吸收率烧蚀模型

第6章　等离子体的演化及冲击波规律研究

第7章　薄膜生长过程研究

第8章　相爆炸和PLD技术机制研究最新进展

第9章　TiO2薄膜光化催化自洁净玻璃的溶胶-凝胶技术制备研究

第10章　TiO2薄膜的磁控溅射法制备

第11章　玻璃基TiO2/TiN/TiO2多层膜的溅射制备

第12章　石英玻璃毛细管内高反射薄膜的制备

第13章　全反射与全反射薄膜空芯光纤

第14章　毛细管内薄膜制备技术的研究

第15章　致密氧化铝薄膜全反射空芯光纤的研究

第16章　GeO2基全反射薄膜空芯光纤的制备研究

跋

后记