本书从仪器仪表类专业的工程训练要求人手，将内容分为上、下两篇，共13章。上篇为应用光学，以光在介质中的成像规律及光学系统的设计与评价为主线；下篇为波动光学，以光在介质中的传播规律为主线。全书涉及内容较多，读者在使用过程中可根据实际情况有选择性地学习。

本书可供高等学校测控技术与仪器专业、光电信息工程专业、光信息科学与技术专业以及光电子技术类专业师生使用，同时也可供从事光学系统及光电信息装备的研究、设计、制造和系统开发的工程技术人员参考。

本书以仪器仪表类专业的工程训练要求为起点，从光学理论的技术应用角度，系统地介绍了应用光学和波动光学的基本思想、理论基础、概念要点及其近代发展情况。

全书分为上、下两篇，共13章。上篇为应用光学，共9章，以光在介质中的成像规律及光学系统的设计与评价为主线，内容包括几何光学的基本定律与成像概念、球面和球面系统、理想光学系统、平面与平面系统、光学系统中的光束限制、光度学和色度学基础、光线的光路计算及像差、典型光学系统以及光学系统的像质评价和像差容限；下篇为波动光学，共4章，以光在介质中的传播规律为主线，内容包括波动光学通论、光的干涉理论及其应用、光的衍射理论及其应用以及光在晶体中的传播。

本书既可作为高等学校仪器仪表及自动化类专业本科生的教材，也可供有关工程技术人员参考。

上篇 应用光学

第1章 几何光学的基本定律与成像概念

第2章 球面和球面系统

第3章 理想光学系统

第4章 平面与平面系统

第5章 光学系统中的光束限制

第6章 光度学和色度学基础

第7章 光线的光路计算及像差

第8章 典型光学系统

第9章 光学系统的像质评价和像差容限

下篇 波动光学

第10章 波动光学通论

第11章 光的干涉理论及其应用

第12章 光的衍射理论及其应用

第13章 光在晶体中的传播

参考文献