随着光电子信息技术、纳米科技和生物生命科学的发展，要求光学成像或光刻的分辨率达到亚波长甚至纳米尺度。然而，由于受到阿贝衍射极限的制约，无论是光刻的特征线宽、光盘存储器件的最小记录点尺寸、还是光学图像的分辨率，按照传统的衍射光学理论很难突破半波极限。对此，科研人员提出了各种方法和手段来挑战半波极限，实现纳米尺度的光学分辨率。本书首先分析和介绍了目前突破光学衍射极限的常见方法的原理和实验方案，然后聚焦于利用薄膜材料（特别是半导体薄膜）光学非线性效应来突破阿贝衍射极限。从薄膜材料非线性折射和吸收的表征方法出发，分析半导体薄膜以及金属掺杂半导体薄膜的非线性吸收和折射特性