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硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究/新材料研究系列丛书
内容
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Sr/Si界面在晶形高介电常数(k)氧化物-半导体体系的外延生长中具有重要的作用, 是形成外延高k氧化物必不可少的缓冲界面层。本书深入研究了不同Sr/Si再构表面的几何及电子结构,并探讨相关的物理机制。
标签
缩略图
书名
硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究/新材料研究系列丛书
副书名
原作名
作者
杜文汉
译者
编者
绘者
出版社
江苏大学出版社
商品编码(ISBN)
9787568410304
开本
32开
页数
123
版次
1
装订
平装
字数
158
出版时间
2018-12-01
首版时间
2018-12-01
印刷时间
2018-12-01
正文语种
汉
读者对象
适用范围
发行范围
公开发行
发行模式
实体书
首发网站
连载网址
图书大类
科学技术-自然科学-物理
图书小类
重量
150
CIP核字
2018287935
中图分类号
O48
丛书名
印张
4.25
印次
1
出版地
江苏
长
宽
高
整理
媒质
用纸
是否注音
影印版本
出版商国别
是否套装
著作权合同登记号
版权提供者
定价
印数
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更新时间:2026/5/6 8:58:08