| 图书 | 应变硅纳米MOS器件辐照效应及加固技术 |
| 内容 | 内容推荐 本书首先阐述应变Si技术的优势,研究应变对能带结构的改变及器件电学特性的增强机制,详细分析了γ射线总剂量辐照损伤效应对MOS器件的影响机理;其次,建立应变Si纳米MOS器件阈值电压、跨导等与总剂量辐照以及器件几何、物理参数之间的关系,及栅隧穿及热载流子栅电流模型;很后,研究纳米SiNMOS器件单粒子瞬态效应的相关研究,并提出抗辐照加固的应变Si纳米MOS器件新型器件结构。本书适用于可靠性方向工作者,尤其是从事微电子器件可靠性的教师及科研人员参考使用。 目录 1绪论(1) 1.1引言(2) 1.2MOS器件辐照效应的国内外研究现状(6) 1.2.1国外研究现状(6) 1.2.2国内研究现状(9) 1.3本书章节安排(11) 2应变Si技术及MOS器件辐照效应产生机理(13) 2.1应变Si技术(14) 2.1.1应变硅MOSFET性能增强机理(14) 2.1.2应变引入机制(16) 2.2MOS器件电离效应(21) 2.2.1MOS器件电离效应(21) 2.2.2MOS器件总剂量损伤机制(22) 2.3MOS器件单粒子效应(25) 2.3.1单粒子效应电荷淀积机理(27) 2.3.2单粒子效应电荷收集机理(27) 2.3.3单粒子瞬态效应模型(30) 2.4本章小结(31) 3单轴应变Si纳米沟道MOS器件设计与制造(33) 3.1应变Si材料(34) 3.1.1应变Si材料的能带结构(34) 3.1.2载流子迁移率的增强机制(35) 3.2单轴应变Si纳米沟道MOS器件设计(37) 3.2.1SiN薄膜致应变器件性能仿真(37) 3.2.2纳米级应变MOS器件工艺参数优化(40) 3.3单轴应变Si纳米MOS器件制造(44) 3.3.1单轴应变Si纳米沟道MOS器件制造工艺及实物样品(45) 3.3.2单轴应变Si纳米沟道MOS器件测试结果与分析(50) 3.4本章小结(52) 4应变SiMOS器件γ射线总剂量辐照损伤机制(53) 4.1辐照损伤效应总体分析(54) 4.1.1移位损伤效应(54) 4.1.2电离损伤效应(55) 4.2应变SiMOS器件γ射线辐照损伤的物理过程(56) 4.2.1电子空穴对的产生能量(57) 4.2.2初始的空穴逃脱(57) 4.2.3空穴的输运(58) 4.2.4深空穴陷落和退火(59) 4.2.5辐照引入的界面陷阱(60) 4.3本章小结(61) 5单轴应变Si纳米MOS器件总剂量辐照阈值电压模型(63) 5.1总剂量γ射线辐照实验(64) 5.2γ射线总剂量辐照MOS器件损伤机制(71) 5.2.1总剂量辐照阈值电压模型(73) 5.2.2总剂量辐照沟道电流模型(79) 5.2.3模型结果讨论与验证(80) 5.3总剂量X射线辐照实验(87) 5.4本章小结(90) 6总剂量辐照对单轴应变Si纳米MOS器件栅电流的研究(91) 6.1总剂量辐照热载流子栅电流模型(92) 6.1.1总剂量辐照热载流子栅电流增强机制(92) 6.1.2热载流子栅电流模型(94) 6.1.3结果与讨论(96) 6.2总剂量辐照隧穿栅电流模型(101) 6.2.1总剂量辐照栅隧穿电流(101) 6.2.2结果与讨论(108) 6.3总剂量辐照下衬底热载流子效应(112) 6.3.1衬底热载流子电流模型的建立(113) 6.3.2总剂量辐照下衬底电流的仿真分析(115) 6.3.3总剂量辐照下衬底电流的结果与讨论(116) 6.4本章小结(118) 7单轴应变结构对SiNMOS器件单粒子瞬态影响研究(119) 7.1单轴应变SiNMOS器件仿真模型(120) 7.2氮化硅膜的能量阻挡模型建立(123) 7.3不同氮化硅膜厚度下的单粒子瞬态(125) 7.3.1电离损伤参数提取(125) 7.3.2不同氮化硅膜厚度下的单粒子瞬态研究(126) 7.4双极效应研究(127) 7.4.1单个NMOS器件双极放大效应研究(127) 7.4.2反相器链的双极效应研究(130) 7.5不同重离子能量下的单粒子瞬态(134) 7.5.1电离损伤参数提取(134) 7.5.2不同重离子能量下的单粒子瞬态研究(135) 7.6本章小结(136) 8应变SiNMOS器件单粒子效应及加固技术研究(137) 8.2MOS器件单粒子瞬态效应研究(140) 8.2.1器件结构及物理模型(140) 8.2.2仿真结果与分析(141) 8.3总剂量辐照对单粒子瞬态效应影响(147) 8.3.1总剂量效应模型参数提取(147) 8.3.2总剂量效应与单粒子效应耦合仿真(148) 8.4U形沟槽新型加固器件结构(151) 8.4.1新型加固结构(151) 8.4.2新型加固器件结构对单粒子瞬态效应的影响(154) 8.4.3漏极扩展加固结构(157) 8.4.4源极扩展加固结构(158) 8.5两种加固结构的仿真(159) 8.5.1漏极扩展结构仿真(159) 8.5.2源极扩展结构仿真(162) 8.5.3两种结构的对比和讨论(164) 8.6本章小结(166) 9总结与展望(167) 参考文献(171) |
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| 书名 | 应变硅纳米MOS器件辐照效应及加固技术 |
| 副书名 | |
| 原作名 | |
| 作者 | 郝敏如 |
| 译者 | |
| 编者 | |
| 绘者 | |
| 出版社 | 中国石化出版社 |
| 商品编码(ISBN) | 9787511457936 |
| 开本 | 16开 |
| 页数 | 192 |
| 版次 | 1 |
| 装订 | 平装 |
| 字数 | 228 |
| 出版时间 | 2020-05-01 |
| 首版时间 | 2020-05-01 |
| 印刷时间 | 2020-05-01 |
| 正文语种 | 汉 |
| 读者对象 | |
| 适用范围 | |
| 发行范围 | 公开发行 |
| 发行模式 | 实体书 |
| 首发网站 | |
| 连载网址 | |
| 图书大类 | 科学技术-工业科技-电子通讯 |
| 图书小类 | |
| 重量 | 288 |
| CIP核字 | 2020068939 |
| 中图分类号 | TN4 |
| 丛书名 | |
| 印张 | 12.5 |
| 印次 | 1 |
| 出版地 | 北京 |
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